主讲人：浦东林 研究员（苏州大学光电科学与工程学院，苏州苏大维格科技集团股份有限公司）

题目：数字光刻、卷对卷纳米压印技术及应用

时间：2024年8月13日（周二）下午 15 ：00

地点：格致楼3016会议室

邀请人：张泽民

报告摘要：

微纳加工技术是支撑当前信息产业的重要共性技术，光刻技术在微纳加工技术中处于核心地位，不仅在半导体、显示等产业具有不可替代的作用，也广泛应用于前沿研究、产业创新中。本团队通过产学研模式，针对大幅面光电子材料与器件的创新，一直坚持微纳制造的基础研究和关键技术工程化研究，自主建立了微纳设计、模具制备、柔性纳米压印批量制造的流程，取得了一系列应用。本报告重点介绍团队在数字化光刻技术方面的研究工作，开发了系列化光刻设备，在团队内部成功用于多种产品开发和前沿研究，还在国内高等院所推广应用，达到同类产品进口替代，其次介绍团队在大幅面触控、立体成像等方面的研究与应用进展，最后探讨数字化光刻进一步的研究方向和潜在应用。

个人简介：

浦东林，苏州大学光电科学与工程学院研究员，兼职：苏州苏大维格科技集团仪器装备事业部总经理、“国家地方联合数码激光成像与显示工程研究中心”副主任、全国半导体设备与材料标准化技术委员会/微光刻分技术委员会委员、江苏省科学仪器设备协会第四届理事会理事。从事光刻技术研究、直写光刻设备开发和应用工作，开发了基于“结构模型”-“数据处理”-“并行扫描曝光”的图形化直写光刻模式，实现了任意连续3D形貌微结构的数字化可控制备，为微纳光电子器件/材料的创新研发提供了有效方法，主持和参与了多项国家和省部级项目，获得了江苏省科学技术二等奖、国家科技进步二等奖等多项奖励。